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2022年09月28日 08:44:36
【ASML首席技术官:明年将向客户交付首台High-NA EUV光刻机 当前光刻技术或走到尽头】《科创板日报》28日讯,ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示,目前公司正有序推行其路线图,在EUV之后是High-NA EUV技术。ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机,大概会在明年某个时间点完成。至于High-NA EUV技术之后的技术方案,Martin van den Brink表示,ASML正在研究降低波长,但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA,可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方,其制造和使用成本都高得惊人,且不一定能真正投入生产,当前半导体光刻技术之路或已走到尽头。 (Bits & Chips)
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