【中科院取得5nm光刻技术新突破！微纳加工领域应用前景广阔】《科创板日报》8日讯，据中科院7月7日官网报道，研究团队近日发表论文，提出一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法，利用这种超分辨的激光直写技术，实现了纳米狭缝电极阵列结构的大规模制备，打破了传统激光直写技术中受体材料为有机光刻胶的限制，可使用多种受体材料，扩展了激光直写的应用场景，在集成电路、光子芯片、微机电系统等众多微纳加工领域展现了广阔的应用前景。