《科创板日报》10月12日讯（记者 黄修眉） 微导纳米今日（10月12日）晚间公告称，公司拟向不超过35名特定投资者发行A股股票，拟募资总额不超过49.44亿元。扣除发行费用后拟用于无锡先进半导体设备产业化升级迭代项目、华中先进半导体设备产业化项目、尖端薄膜沉积技术研发中心项目及补充流动资金。

上述募投项目紧密围绕微导纳米以原子层沉积（ALD）技术为核心、化学气相沉积（CVD）等多种薄膜沉积技术梯次发展的主营业务展开，分别承担成熟产品升级迭代、重点市场区域化产业布局、下一代先进工艺设备研发和营运资金保障等功能。

微导纳米是一家面向半导体、泛半导体领域的高端微纳装备制造商。公司形成了以原子层沉积技术为核心，化学气相沉积等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与销售，向下游半导体、泛半导体客户提供尖端薄膜设备、配套产品及服务。

上述募投项目中，无锡先进半导体设备产业化升级迭代项目建成后，将围绕iTomic HiK、iTomic MeT、iTomic PE、iTronix PE、iTomic SPX等现有产品持续开展设备架构、核心模块及工艺能力升级，提升相关产品的技术性能、生产效率、量产稳定性及规模化交付能力；

同时承接微导纳米iTronix PES系列设备的前期研发成果，进一步推进其产业验证和产业化应用进程。通过本项目实施，微导纳米将进一步丰富薄膜沉积设备产品矩阵，提升产品工艺覆盖能力、产业化能力和生产运营效率，为半导体设备业务持续发展提供支 撑。

华中先进半导体设备产业化项目建设面向3D NAND等存储制造领域的半导体设备产业化及研发基地。项目建成后将重点围绕公司iTronix MTP等薄膜沉积设备开展产品研发优化、工艺开发、客户验证及产业化建设。本项目建设有利于加快产品由研发验证阶段向规模化应用阶段转化，满足先进存储客户不断提升的设备需求。

尖端薄膜沉积技术研发中心项目建成后，将重点围绕以下方向开展研发：

一是面向下一代先进制程、先进封装及新材料应用等中长期技术需求，开展前沿薄膜沉积设备、新型薄膜材料及配套工艺技术研发，持续储备面向未来工艺节点的关键设备和技术能力；

二是在现有ALD、CVD技术体系基础上，进一步拓展PVD、ALE等技术路线，持续丰富公司薄膜沉积及相关半导体设备产品体系；三是围绕设备性能优化、研发效率提升和生产运营智能化等需求，推动人工智能技术与设备控制、工艺优化、异常识别、故障诊断及智能运维等环节融合，提升设备数字化、智能化水平。

微导纳米表示，本次发行将进一步完善公司先进薄膜沉积设备研发验证、生产制造、测试及数字化运营条件，加快现有产品升级和新产品产业化导入；通过上述投入，公司将推动技术体系由现有ALD、CVD向多技术平台持续延伸， 增强下一代先进半导体专用设备及工艺技术储备，进一步提升自主创新能力和长期技术竞争力。

此外，本次发行除无锡项目外，还将支持微导纳米在武汉建设集研发、工艺验证、装配调试、设备交付及技术服务于一体的区域化产业基地，贴近重点客户开展设备开发、工艺验证及性能优化，提高客户需求响应及现场服务效率，缩短新设备从研发验证到量产应用的周期。

《科创板日报》记者注意到，从该公司看半年报，微导纳米的收入结构已经发生拐点式变化。2026年上半年，微导纳米营收11.89亿元，同比增长13.27%；半导体设备收入6.29亿元，同比增长224.77%，占主营收入53.11%，半导体业务首次成为该公司第一大主营业务。

从这一点来看，微导纳米收入引擎已由光伏切换至半导体薄膜沉积设备，本次49.44亿定增则是微导纳米进一步深入布局半导体业务的体现。

截至10月12日收盘，微导纳米最新股价89.57元/股，总市值416亿元。