《科创板日报》10月19日讯（记者 陈俊清） 在全球半导体制造体系中，i-line与KrF光刻机始终是成熟制程的核心支撑，广泛渗透于汽车电子、工业控制、功率器件、MEMS传感器等产业赛道。行业数据显示，2024年全球i-line与KrF光刻机出货量合计占比约70%，是半导体产能结构中体量最大、应用最广的装备品类。

与之形成鲜明反差的是，国内光刻核心部件的自主供给几乎处于空白状态：每台光刻机需配套一套成像物镜与照明系统，单套价值800-1200万元，国内整体市场规模约50亿元，但核心曝光系统国产化率不足1%。

超高精度光学加工、纳米级检测等一道道技术壁垒横亘在国产光刻产业面前，核心部件的自主突破，成为整个行业的刚需。在近日举行的2026湾区半导体产业生态博览会上，上海米莱芯程半导体有限公司携全资子公司上海芯颐和科技有限公司，公开展示了基于系统工程方法研发的i-line光刻曝光系统核心部件。

展会期间，米莱芯程创始人兼CEO高安接受了《科创板日报》记者的采访，深耕光刻领域近20年的高安详解了团队“阶梯式”攻坚DUV光刻机整机及民企构建光刻产业链的思考与实践。

▍从光学镜头起步，以营收反哺研发

站在聚光灯下的高安，是国内光刻领域少有的兼具海外顶尖企业研发经验与国内整机攻关经历的技术带头人。聊起入行经历，高安回忆道，“复旦大学微电子本科，去荷兰特文特大学读纳米技术硕士、应用物理学博士，学校要求必须去工业界实习，作为国际学生对当地不熟，学校帮忙牵线推荐，就进入了光刻行业，进入了ASML，一干就是十几年。”

在荷兰ASML的8年，高安参与了EUV和浸没式DUV光刻机的研发工作，负责光电类探测传感器，包括EUV内部污染检测、掩模版内部污染检测，以及晶圆对准传感器等核心模块，最后一年则负责整机集成相关工作。2018年底，他作为海外高层次人才引进回国，投身光刻机攻关项目。

高安坦言，“做光刻机对资金、资源的要求极高，民营企业直接做整机根本不现实。所以我们决定先从能产生营收的业务做起，养活团队，再逐步往整机走。“

米莱芯程最初以光学镜头业务起步。2023年6月，上海芯颐和科技有限公司成立，主打光学镜头业务，这便是米莱芯程的起点。创业初期团队只有十几个人，启动资金来自天使投资和早期订单。

“当时的订单主要集中在非光刻机领域的光学镜头，可以快速交付形成营收。”高安透露，2024年光学镜头业务营收2700万元；这两年相关业务营收呈现稳定增长态势。

“这就是我们的生存策略，先用成熟业务的现金流反哺研发，一步一步往高端走。”高安直言，“如果一开始就砸钱做最高端的光刻机，团队根本撑不到产品落地的那一天。”

伴随着业务增长，团队规模也在快速扩张。据高安介绍，公司从2024年初的十几人，到2024年底突破110人，再到如今公司总人数超过350人，研发人员占比90%以上。

快速扩张的背后是资本市场的支撑。2025年7月与11月，上市公司联合化学分两批次向米莱芯程累计增资3.2亿元。

值得注意的是，米莱芯程近期再次完成3.61亿元新一轮增资，除联合化学外引入聚源创投、深圳华控、正和创投等多家机构。其中，聚源创投为中芯国际旗下产业投资平台中芯聚源管理的基金，深圳华控背后有京东科技参与出资，正和创投同样长期关注半导体产业链，这些产业资本的集体入局，市场将其视作对米莱芯程技术路线与工程化能力的实质性认可。按投前估值15亿元，本次增资完成后，联合化学持有米莱芯程的股权比例由37.28%被动稀释到33.27%。

估值层面，米莱芯程投前估值从 2025 年 7 月的 5 亿元增长至本轮 15 亿元，体现产业端对公司成长前景的积极预期。

▍KrF、ArF、ArFi逐级推进

高安表示，光刻机研发没有“弯道超车”，须遵循技术规律，走阶梯式迭代的路线。“公司以i-line起步，逐级推进KrF、ArF、ArFi浸没式DUV产品。”

高安向《科创板日报》记者表示，公司i-line光刻机主要面向功率器件、模拟芯片、MEMS等领域；后续将持续推进KrF光刻机、ArF光刻机、ArFi浸没式光刻机研发。

在他看来，光刻机的技术难度分为两个层面：一个是整机技术，也就是系统设计与系统集成；另一个是分系统技术，也就是零部件技术。“就像手机，厂商可以买屏幕、CPU来组装，但光刻机不行，绝大部分一级分系统外面没有可用的合格供应商。所以光刻机公司必须自己解决一级分系统的设计和集成，这是最大的技术和供应链门槛。”

为了攻克整机技术壁垒，米莱芯程构建了覆盖16个一级供应链模块的自主研发能力。高安表示，“每个领域都有我们自己的技术专家带队，负责人至少有7年以上行业经验。我们自己设计零部件，找厂商加工制造，然后自己集成。从零部件到模组，再到分系统，最后组装成整机。整个装配和标定步骤有1000多步。”

谈及产品竞争力，高安总结了三个层面：“一是本土替代概念，有些企业有明确的国产替代需求；二是定制性功能开发，我们可以快速响应客户的定制需求；三是经济性，相比进口设备有成本优势。”

▍i-line光刻机预计下半年亮相推进光刻机零部件本土化

采访中，高安没有回避国内供应链的差距，在他看来，光刻机国产化不是一家公司的事，而是整个产业生态的共同成长。

“经常有人问我们国产化率是多少，其实这个指标很难用价值量精确衡量。”高安坦言，“如果按供应商数量算，大约2/3是国内的，1/3是国外的。高端基础材料、高精度传感器、高端光源这些，目前还依赖进口。”

面对供应链短板，米莱芯程的做法不是简单地“换国产”，而是与上游供应商深度绑定，输出技术经验和检测标准，帮助供应商共同成长。

与此同时，米莱芯程还将光刻机光学技术应用到其他半导体设备领域。“不少半导体设备同样需要光学镜头、运动平台与传感器，只是精度指标相较于光刻机更低。我们的技术可应用于这类设备，能够快速帮助其实现更高精度。

“国内参与光刻机领域的公司很多，但能实现真正出货和交付的相对较少。”在高安看来，国产光刻机市场足够大，需要更多的玩家参与。“国内每年几百亿的采购规模，就算国产化率做到10%，也有几十亿的市场。而且不同客户有不同需求：有的追求最先进性能，有的看重国产替代，有的需要定制化功能，还有的在意经济性。这就是国产光刻机的机会。”

高安表示，将力争尽快形成i-line光刻机小批量量产的能力。”他补充道，成熟制程层面的设备通用性很强，这为快速量产提供了基础。