光刻机
话题简介
EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备，目前由ASML独家进行研发、制造，ASML公司掌握80%的国际市场份额，市面上无法寻找到其他替代品
财联社3月17日电，光刻机板块表现强势，茂莱光学大涨超10%，先前张江高科涨停，宝通科技大涨8%，苏大维格、福晶科技涨超3%。
03月17日 10:20 阅 8.67W+
财联社3月14日电，光刻机板块盘中探底回升，金力泰大涨超10%，晶瑞电材、宝通科技大涨8%，扬帆新材、强力新材、富创精密、安集科技等涨幅靠前。消息面上，全球光刻机巨头ASML预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右（约合人民币超162亿元），其正在加快拓展在中国的业务和销售。
03月14日 10:29 阅 6.93W+
《科创板日报》13日讯，佳能发售了面向前道工序的半导体光刻机新产品i线步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产品能够同时实现0.5μm（微米）高解像力与50×50mm大视场曝光。在不断趋向高精尖化的全画幅CMOS传感器制造领域中，使得单次曝光下的高解像力成像成为可能。
03月13日 17:02 阅 6.9W+
财联社3月13日电，光刻机板块延续强势，扬帆新材超10%，板块人气龙头容大感光再涨10%，蓝英装备、奥普光电、南大光电涨幅在5%以上。
03月13日 09:50 阅 6.78W+
财联社3月11日电，据知情人士消息，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）的承包商正在考虑把厂房设在东南亚国家。据报道，在荷兰布拉班特发展局（Brabant Development Agency）的安排下，十多家科技公司高管下周将到越南、马来西亚和新加坡访问，这些公司几乎都是阿斯麦的承包商。
03月11日 14:48 阅 8.6W+
财联社3月9日电，近期，荷兰政府拟提议限制浸没式DUV光刻机的出口，该提议预计将在夏季之前公布。阿斯麦对此回应，“额外的出口管制并不涉及所有的浸没式光刻机，而只适用于‘最先进的’系统。”由于没有收到明确定义，阿斯麦将“最先进的”解读为“TWINSCAN NXT:2000i及后续的系统。”记者以投资者身份致电中芯国际投资者关系部，相关工作人员表示，公司目前生产运营正常，目前并未收到相关通知。 (第一财经)
中芯国际+0.36%
03月09日 14:15 来自 第一财经阅 6.98W+
财联社3月1日电，据台湾《电子时报》，三星电子最快将在2023年内于极紫外光（EUV）光刻工艺中，引入三星研发的光罩护膜，有望提升晶圆代工竞争力和带动光罩护膜材料、零组件需求。
03月01日 19:32 阅 6.73W+
《科创板日报》27日讯，大族激光近期接受投资者调研时称，目前，公司光刻机项目主要应用在分立器件领域，分辨率3-5μm；其中，接近式光刻机已投入市场，步进式光刻机已启动用户优化。
02月27日 14:18 阅 5.97W+
《科创板日报》3日讯，研究机构TechInsights日前梳理了各大企业在EUV、纳米压印等新一代光刻技术领域专利持有情况，对象包括ASML、台积电、三星电子、卡尔蔡司等。TechInsights发现，主要企业EUV光刻专利数量为1114件，其中蔡司（353例）和ASML（345例）占据了相当大的比例，台积电在晶圆代工界排名第一，也拥有279项专利，三星电子为137项，是其主要竞争对手台积电的一半。
02月03日 19:36 阅 8.7W+
《科创板日报》1日讯，清溢光电最新调研纪要显示，在平板显示用掩膜版技术方面，公司已实现8.5代高精度TFT用掩膜版及6代中精度AMOLED/LTPS用掩膜版的量产，初步实现掩膜基板涂胶工艺的量产及半透膜掩膜版(HTM)产品的多家客户供货，正在逐步推进8.6代高精度TFT用掩膜版和6代高精度AMOLED/LTPS用掩膜版的客户导入及后续逐步量产计划，同步进行6代超高精度AMOLED/LTPS用掩膜版的研发和高规格半透膜掩膜版(HTM)规划开发。另外，2022年度，合肥工厂产能持续爬坡，2022年末综合产能利用率预计达到80%-85%。公司正计划新引进平板显示掩膜版光刻机，进一步提升合肥工厂的综合产能。
清溢光电+13.36%
02月01日 08:22 阅 6.71W+
财联社1月25日电，荷兰光刻机巨头阿斯麦预计第一季度净销售额为61亿至65亿欧元，市场预估为60.7亿欧元。预计2023年销售额将增长25％以上。
01月25日 14:06 阅 8.62W+
财联社1月20日电，据台湾《中国时报》1月19日报道，面对拜登政府不断施压，荷兰终于受不了了。荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫表示，不会草率跟进美国对大陆芯片出口制造技术实施新限制。报道称，因美国施压，荷兰政府禁止阿斯麦控股公司（ASML）向大陆出口最先进的极紫外（EUV）光刻机，但仍可销售上一代深紫外（DUV）光刻机，然而美国打算更进一步，要求把深紫外光刻机也纳入禁售范围。荷兰外贸大臣施赖纳马赫说，荷方已经和美国讨论了很久，不过华府在去年10月祭出新规定，改变了整个局势。“不能因为他们（美国）向我们施压两年，我们就必须签字同意，我们不会这么做。” (参考消息)
01月20日 16:39 来自 参考消息阅 8.29W+
《科创板日报》17日讯，芯源微今日在公司成立二十周年之际举行新品发布会，宣布推出新一代浸没式高产能涂胶显影机FT(III)300。作为芯源微自主开发的第三代机型，浸没式高产能涂胶显影机具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。目前，该款机型已通过客户端验证，达到客户量产要求，成功打破国外垄断，填补国内空白。新品发布会以线上形式举行，记者了解到，该机型可在复杂光刻工艺下实现300片以上产能，同时可匹配所有主流光刻机联机量产，通过选配覆盖国内28nm及以上所有工艺节点、覆盖offline Barc、KrF、ArF、浸没式等光刻工艺。芯源微董事长宗润福表示，该机型下游意向客户覆盖国内逻辑、存储、功率器件等多家国内知名厂商，预计明年可实现批量订单。
芯源微-2.20%
12月17日 19:24 阅 8.5W+
《科创板日报》15日讯，一家小型韩国公司Graphene Lab宣布，已经开发出用石墨烯制造小于5纳米的EUV薄膜的技术，并准备批量生产新的EUV薄膜，有望显著提高荷兰半导体设备公司ASML的极紫外光刻设备的良率。公司CEO Kwon Yong-deok称，全球EUV薄膜市场预计将在2024年达到1万亿韩元。三星电子、台积电和英特尔有望成为公司潜在客户。 (Businesskorea)
12月15日 15:57 来自 Businesskorea阅 6.84W+
