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光刻机
话题简介
EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备,目前由ASML独家进行研发、制造,ASML公司掌握80%的国际市场份额,市面上无法寻找到其他替代品
财联社3月22日电,据台湾联合报消息,英伟达CEO黄仁勋21日透露,经与台积电、ASML及新思科技四方的合作,经历四年开发,英伟达完成全新的AI加速技术Culitho,这是一个用于运算式微影函式库,将可缩短先进制程芯片的光罩时程、拉升良率并大幅减低晶圆制作的能耗。黄仁勋并预告台积电将把这套AI系统,在今年6月导入2纳米试产,用于提升2纳米制程良率,并缩短量产时程。
17小时前 5.96W+
财联社3月17日电,光刻机板块表现强势,茂莱光学大涨超10%,先前张江高科涨停,宝通科技大涨8%,苏大维格、福晶科技涨超3%。
03月17日 10:20 8.67W+
财联社3月16日电,北方华创今日在互动平台表示,目前公司在手订单充足,公司没有研发光刻机计划。
03月16日 18:10 6.69W+
财联社3月14日电,光刻机板块盘中探底回升,金力泰大涨超10%,晶瑞电材、宝通科技大涨8%,扬帆新材、强力新材、富创精密、安集科技等涨幅靠前。消息面上,全球光刻机巨头ASML预计2023年在中国的销售额将保持在22亿欧元左右(约合人民币超162亿元),其正在加快拓展在中国的业务和销售。
03月14日 10:29 6.93W+
《科创板日报》13日讯,佳能发售了面向前道工序的半导体光刻机新产品i线步进式光刻机“FPA-5550iX”,该产品能够同时实现0.5μm(微米)高解像力与50×50mm大视场曝光。在不断趋向高精尖化的全画幅CMOS传感器制造领域中,使得单次曝光下的高解像力成像成为可能。
03月13日 17:02 6.9W+
财联社3月13日电,光刻机板块延续强势,扬帆新材超10%,板块人气龙头容大感光再涨10%,蓝英装备、奥普光电、南大光电涨幅在5%以上。
03月13日 09:50 6.78W+
财联社3月11日电,据知情人士消息,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)的承包商正在考虑把厂房设在东南亚国家。据报道,在荷兰布拉班特发展局(Brabant Development Agency)的安排下,十多家科技公司高管下周将到越南、马来西亚和新加坡访问,这些公司几乎都是阿斯麦的承包商。
03月11日 14:48 8.6W+
对于荷兰最新的出口管制措施涵盖哪些设备,ASML解释称,需要重点指出的是新的出口管制措施并不针对所有浸没式光刻系统,而只涉及所谓“最先进”的浸没式DUV系统。
03月09日 14:50 来自 财联社 潇湘1.68W+
财联社3月9日电,近期,荷兰政府拟提议限制浸没式DUV光刻机的出口,该提议预计将在夏季之前公布。阿斯麦对此回应,“额外的出口管制并不涉及所有的浸没式光刻机,而只适用于‘最先进的’系统。”由于没有收到明确定义,阿斯麦将“最先进的”解读为“TWINSCAN NXT:2000i及后续的系统。”记者以投资者身份致电中芯国际投资者关系部,相关工作人员表示,公司目前生产运营正常,目前并未收到相关通知。 (第一财经)
中芯国际+0.36%
03月09日 14:15 来自 第一财经6.98W+
财联社3月1日电,据台湾《电子时报》,三星电子最快将在2023年内于极紫外光(EUV)光刻工艺中,引入三星研发的光罩护膜,有望提升晶圆代工竞争力和带动光罩护膜材料、零组件需求。
03月01日 19:32 6.73W+
《科创板日报》27日讯,大族激光近期接受投资者调研时称,目前,公司光刻机项目主要应用在分立器件领域,分辨率3-5μm;其中,接近式光刻机已投入市场,步进式光刻机已启动用户优化。
02月27日 14:18 5.97W+
《科创板日报》3日讯,研究机构TechInsights日前梳理了各大企业在EUV、纳米压印等新一代光刻技术领域专利持有情况,对象包括ASML、台积电、三星电子、卡尔蔡司等。TechInsights发现,主要企业EUV光刻专利数量为1114件,其中蔡司(353例)和ASML(345例)占据了相当大的比例,台积电在晶圆代工界排名第一,也拥有279项专利,三星电子为137项,是其主要竞争对手台积电的一半。
02月03日 19:36 8.7W+
《科创板日报》1日讯,清溢光电最新调研纪要显示,在平板显示用掩膜版技术方面,公司已实现8.5代高精度TFT用掩膜版及6代中精度AMOLED/LTPS用掩膜版的量产,初步实现掩膜基板涂胶工艺的量产及半透膜掩膜版(HTM)产品的多家客户供货,正在逐步推进8.6代高精度TFT用掩膜版和6代高精度AMOLED/LTPS用掩膜版的客户导入及后续逐步量产计划,同步进行6代超高精度AMOLED/LTPS用掩膜版的研发和高规格半透膜掩膜版(HTM)规划开发。另外,2022年度,合肥工厂产能持续爬坡,2022年末综合产能利用率预计达到80%-85%。公司正计划新引进平板显示掩膜版光刻机,进一步提升合肥工厂的综合产能。
清溢光电+13.36%
02月01日 08:22 6.71W+
荷兰芯片设备制造巨头阿斯麦预计,其2023年的收入将继续大幅增长,并且预期半导体行业在今年下半年将重新加速增长。
01月25日 22:41 来自 财联社 刘蕊3.1W+
财联社1月25日电,ASML计划今年仍将生产60套EUV系统和375套DUV系统,仍预期市场需求高。
01月25日 14:23 8.22W+
财联社1月25日电,荷兰光刻机巨头阿斯麦2030年展望报告称,年收入约440亿欧元至600亿欧元,毛利率约56%至60%。
01月25日 14:07 8.46W+
财联社1月25日电,荷兰光刻机巨头阿斯麦预计第一季度净销售额为61亿至65亿欧元,市场预估为60.7亿欧元。预计2023年销售额将增长25%以上。
01月25日 14:06 8.62W+
财联社1月20日电,据台湾《中国时报》1月19日报道,面对拜登政府不断施压,荷兰终于受不了了。荷兰外贸与发展合作大臣莉谢·施赖纳马赫表示,不会草率跟进美国对大陆芯片出口制造技术实施新限制。报道称,因美国施压,荷兰政府禁止阿斯麦控股公司(ASML)向大陆出口最先进的极紫外(EUV)光刻机,但仍可销售上一代深紫外(DUV)光刻机,然而美国打算更进一步,要求把深紫外光刻机也纳入禁售范围。荷兰外贸大臣施赖纳马赫说,荷方已经和美国讨论了很久,不过华府在去年10月祭出新规定,改变了整个局势。“不能因为他们(美国)向我们施压两年,我们就必须签字同意,我们不会这么做。” (参考消息)
01月20日 16:39 来自 参考消息8.29W+
《科创板日报》17日讯,芯源微今日在公司成立二十周年之际举行新品发布会,宣布推出新一代浸没式高产能涂胶显影机FT(III)300。作为芯源微自主开发的第三代机型,浸没式高产能涂胶显影机具有高产能、高工艺能力、高洁净度、高扩展性和易维护性等优势。目前,该款机型已通过客户端验证,达到客户量产要求,成功打破国外垄断,填补国内空白。新品发布会以线上形式举行,记者了解到,该机型可在复杂光刻工艺下实现300片以上产能,同时可匹配所有主流光刻机联机量产,通过选配覆盖国内28nm及以上所有工艺节点、覆盖offline Barc、KrF、ArF、浸没式等光刻工艺。芯源微董事长宗润福表示,该机型下游意向客户覆盖国内逻辑、存储、功率器件等多家国内知名厂商,预计明年可实现批量订单。
芯源微-2.20%
12月17日 19:24 8.5W+
《科创板日报》15日讯,一家小型韩国公司Graphene Lab宣布,已经开发出用石墨烯制造小于5纳米的EUV薄膜的技术,并准备批量生产新的EUV薄膜,有望显著提高荷兰半导体设备公司ASML的极紫外光刻设备的良率。公司CEO Kwon Yong-deok称,全球EUV薄膜市场预计将在2024年达到1万亿韩元。三星电子、台积电和英特尔有望成为公司潜在客户。 (Businesskorea)
12月15日 15:57 来自 Businesskorea6.84W+
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