很抱歉,当前没有启用javascript,网站无法正常访问。请开启以便继续访问。我国半导体抗光腐蚀研究取得新进展
2020年09月28日 06:49:45
【我国半导体抗光腐蚀研究取得新进展】财联社9月28日讯,内蒙古大学消息,该校王蕾研究员带领的科研团队在半导体抗光腐蚀研究方面取得新进展,得到国家自然科学基金等多个项目的认可支持。“钝化层助力BiVO4抗光腐蚀研究”的相关成果已于近日在国际化学期刊《德国应用化学》发表,将有助于提高太阳能制氢的光电转换效率。
11.46W+特别声明:文章内容仅供参考,不构成投资建议。投资者据此操作风险自担。