《科创板日报》（记者 张克瑶）讯，奥普光电（002338.SZ）曾在互动平台回复称“大股东长春光机所（中国科学院长春光学精密机械与物理研究所）正在研发更高水平的光刻机曝光系统”。6月12日下午，公司证券部接受《科创板日报》记者电话采访时透露，“更高水平”即45-22nm光刻机曝光系统。

奥普光电证券部表示，目前公司没有参与光刻机的研发工作，公司主营业务跟光刻机曝光系统也没有任何关系。

“可以说曝光系统前进，光刻机才能往前推进，曝光系统是引领着光刻机往前走的。”奥普光电证券部介绍，光刻机曝光系统是光刻机中软硬件一体的关键部件，负责光刻工艺中的对准曝光工序，光刻机曝光系统研发工作属于国家02专项（注：国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”）。

据了解，长春光机所参与研发了光刻机曝光系统。早在2007年，国家02专项启动90nm光刻机曝光系统立项论证，2009年获批启动；2017年10月，由长春光机所联合其他单位研发的90nm光刻机曝光系统通过验收测试。

2018年7月，长春光机所控股子公司长春国科精密光学技术有限公司宣布，国家02专项核心任务——“高NA浸没光学系统关键技术研究”项目在上海通过了任务正式验收，标志着我国首套全自主知识产权高端光刻机曝光光学系统研制成功。

奥普生物股价突破30元，来源：wind数据

虽然奥普光电一再声称没有参与大股东长春光机所的光刻机研发项目，但二级市场早已沸腾，5月下旬至今，奥普光电收获8个涨停板，股价一再突破新高。6月12日，奥普光电收于32.31元/股。