【中微公司发布双反应台电感耦合等离子体刻蚀设备】《科创板日报》16日讯，中微公司在SEMICON China 2021期间正式发布了新一代电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin-Star®，用于IC器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用该设备为电介质前道/后道制程、多晶硅刻蚀、DTI和BSI刻蚀等提供了高性价比的刻蚀解决方案。与其他同类设备相比，Primo Twin-Star® 以更小的占地面积、更低的生产成本和更高的输出效率，进行ICP适用的逻辑和存储芯片的介质和导体的各种刻蚀应用，并用于功率器件和CMOS图像传感器的刻蚀应用。