很抱歉,当前没有启用javascript,网站无法正常访问。请开启以便继续访问。消息称ASML四代EUV光刻机迈进1nm 2025~2026年大规模应用
2021年03月19 08:53:48
【消息称ASML四代EUV光刻机迈进1nm 2025~2026年大规模应用】《科创板日报》19日讯,据外媒报道,ASML产品营销总监Mike Lercel日前透露EUV光刻机的最新进展,预计今年年底前,NXE:3600D将开始交付,30mJ/cm2下的晶圆通量是160片,比3400C提高了18%,预计会是未来台积电、三星3nm制程的主要依托。3600D之后,ASML规划的光刻机分别是NEXT、EXE:5000和EXE:5200,其中从EXE:5000开始,数值孔径提高到0.55,预计将在2022年晚些时候发货,大规模应用在2025~2026年,或用于台积电2nm甚至1nm等工艺。
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